| 不同基体材料微弧氧化生成陶瓷膜的研究 |
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| 引用本文： | 贺子凯,唐培松. 不同基体材料微弧氧化生成陶瓷膜的研究[J]. 材料保护, 2002, 35(4): 31-31 |
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| 作者姓名： | 贺子凯 唐培松 |
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| 作者单位： | 昆明理工大学冶金系表面工程研究所,云南昆明,650093 |
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| 摘 要： | 1 前 言微弧氧化是一种表面处理新技术[1～ 2 ] ,它直接在Ａｌ、Ｍｇ和Ｔｉ等金属表面原位生长的致密陶瓷氧化层 ,可改善材料自身的防蚀、耐磨和电绝缘的特性。陶瓷氧化膜的厚度可通过工艺条件加以调整 ,可达 30 0 μｍ ,最高显微硬度达ＨＶ 2 5 0 0 ,绝缘电阻大于10 0ＭΩ ,与基体的结合力强 ,工件尺寸变化小。陶瓷材料以其特有的绝缘性、高硬度、高强度、耐磨、耐磨蚀、耐高温等优异性能成为继钢铁、铝材以后的第三代工程材料。但由传统烧结工艺制备的陶瓷材料脆性较大 ,可加工性差 ,一直束缚其广泛应用。而微弧氧化技术能在加工成形的…
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| 关 键 词： | 微弧氧化 陶瓷膜 研究 铝合金 表面处理 |
| 文章编号： | 1001-1560(2002)04-0031-01 |
Ceramic Coatings by Microarc Oxidation on Various Alloy Materials |
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