电子束照射下ZnS向Zn纳米薄膜的转变 |
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引用本文: | 周禾丰,卫英慧,胡兰青,许并社.电子束照射下ZnS向Zn纳米薄膜的转变[J].电子显微学报,2001,20(4):294-295. |
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作者姓名: | 周禾丰 卫英慧 胡兰青 许并社 |
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作者单位: | 太原理工大学材料科学系, |
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摘 要: | 金属纳米晶体材料由于其晶粒小、界面密度高 ,表现出独特的物理、化学性能1] ,为传统材料的改性和新型功能材料的开发开辟了新路。目前制备纳米材料的方法有金属蒸发凝聚 -原位冷压成型法、机械合金化法、非晶晶化法、电解沉积法以及电子束照射法等2 ] 。这些方法各有特点 ,其中电子束照射法优点在于真空度高 ,制备纳米微粒纯净度高、尺寸易于控制等。本研究组已用这种方法分别从Al2 O3和MoO3制备了Al和Mo纳米微粒3 ,4 ] ,并研究了在电子束照射下纳米微粒的结合过程。本文报道了在电子束照射下用ZnS制备Zn纳米薄膜的实验…
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关 键 词: | 电子束照射 ZnS 金属纳米晶体材料 无纳米膜薄 结合能 硫化锌 |
Zn nanofilm produced by ZnS under eletron beam irradiation |
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