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电子束照射下ZnS向Zn纳米薄膜的转变
引用本文:周禾丰,卫英慧,胡兰青,许并社.电子束照射下ZnS向Zn纳米薄膜的转变[J].电子显微学报,2001,20(4):294-295.
作者姓名:周禾丰  卫英慧  胡兰青  许并社
作者单位:太原理工大学材料科学系,
摘    要:金属纳米晶体材料由于其晶粒小、界面密度高 ,表现出独特的物理、化学性能1] ,为传统材料的改性和新型功能材料的开发开辟了新路。目前制备纳米材料的方法有金属蒸发凝聚 -原位冷压成型法、机械合金化法、非晶晶化法、电解沉积法以及电子束照射法等2 ] 。这些方法各有特点 ,其中电子束照射法优点在于真空度高 ,制备纳米微粒纯净度高、尺寸易于控制等。本研究组已用这种方法分别从Al2 O3和MoO3制备了Al和Mo纳米微粒3 ,4 ] ,并研究了在电子束照射下纳米微粒的结合过程。本文报道了在电子束照射下用ZnS制备Zn纳米薄膜的实验…

关 键 词:电子束照射  ZnS  金属纳米晶体材料  无纳米膜薄  结合能  硫化锌

Zn nanofilm produced by ZnS under eletron beam irradiation
Abstract:
Keywords:
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