镀膜前基片清洗工艺

本文主要介绍英国国家物理研究所在镀膜以前,快速清洗各种形状和尺寸的单个基片(特别是介质基片)的方法。对表面的清洗基本上可以分成预清洗、清洗和干燥三个阶段:预清洗的目的是清除零件表面严重污染,如水汽、油污、微粒等;清洗的目的是进一步清除零件表面残留物;最后是对零件进行干燥。在清洗和干燥阶段,需尽量避免对零件造成重新污染。