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化学镀Co—P/Ni—P磁记录介质的研究
作者姓名:
杨贤金
摘 要:
对用化学镀制取Ni-P/Co-P磁记录介质的工艺进行了研究,结果表明,对基片进行合适的预处理后,首先化学镀一层Ni-P合金层,厚度在24μm左右,然后再化学镀Co-P磁性合金,可获得良好的磁记录性能。
关 键 词:
化学镀 钴磷合金 镍磷合金 磁记录介质
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