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| 光刻胶图形塌陷机理 | |
| 作者姓名： | 微言 |
| 摘 要： | 光刻胶图形塌陷机理＝Ｍｅｃｈａｎｉｓｍｏｆｒｅｓｉｓｔｐａｔｔｅｒｎｃｏｌｌａｐｓｅ［刊，英］／Ｔａｎａｋａ，Ｔ，…／／Ｊ．Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ，Ｓｏｃ，－１９９３，１４０（７）．－１１５～１１６采用原子力显微镜对清洗液中的图形进行测量来研究光刻胶... |
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