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反应烧结碳化硅陶瓷的高温氧化行为研究
引用本文:黄清伟 高积强. 反应烧结碳化硅陶瓷的高温氧化行为研究[J]. 稀有金属材料与工程, 2000, 29(1): 32-34
作者姓名:黄清伟 高积强
作者单位:西安交通大学,西安,710049
基金项目:国家自然科学基金!资助项目 (批准号 :5 9772 0 13 )
摘    要:研究了反应烧结碳化硅陶瓷在1300℃空气中的高温氧化行为。结果表明:高温氧化过程中在试样表面出现的非晶态SiO2晶化以及氧化膜起裂,使得该陶瓷氧化曲线遵循对数氧化规律。

关 键 词:碳化硅 反应烧结 高温氧化 陶瓷

High Temperature Oxidation Kinetics of Reaction Bonded Silicon Carbide
Huang Qingwei,Gao Jiqiang,Jin Zhihao. High Temperature Oxidation Kinetics of Reaction Bonded Silicon Carbide[J]. Rare Metal Materials and Engineering, 2000, 29(1): 32-34
Authors:Huang Qingwei  Gao Jiqiang  Jin Zhihao
Abstract:
Keywords:silicon carbide   reaction bonded   high temperature oxidation  
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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