直流反应磁控溅射淀积氧化物光学薄膜和成膜过程的反应动力学

本文首次应用化学反应动力学理论详细分析了直流反应磁控溅射淀积氧化物光学薄膜的成膜过程机理;解释了由反应溅射制备的氧化物薄膜为什么具有良好的光学和机械性能的原因。最后使用经改进的磁控S枪,采用调节溅射功率的控制方法,成功地反应溅射淀积了几乎没有吸收的TiO_2、ZnO和Al_2O_3薄膜。