硅钢冲片氧化膜处理 |
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引用本文: | 巩丕芳.硅钢冲片氧化膜处理[J].低压电器,1980(4). |
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作者姓名: | 巩丕芳 |
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作者单位: | 青岛微电机厂 |
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摘 要: | 在硅钢片表面,使其生成0.01~0.02毫米厚的一层氧化薄膜,作为电机(变压器)、电器冲片的片间绝缘,乃是最经济、方便的方法,而且适于大批量生产。氧化膜处理是将硅钢片放在氧化气氛中,在一定的温度下保温,从而使冲片表面生成 Fe_2O_3和 Fe_3O_4薄膜的工艺过程。这层薄膜具有均匀、坚固、良好的绝缘性能。氧化剂有二氧化碳、空气加水蒸汽以及水蒸汽法等。不管采用何种氧化剂,其基本原理均是氧化剂与红热的铁接触时,发生氧化反应,从而得到 Fe_2O_3和 Fe_3O_4。
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