首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

国际半导体技术发展路线图2008年更新版综述(一)
引用本文:王洪波.国际半导体技术发展路线图2008年更新版综述(一)[J].中国集成电路,2009,18(6):9-15.
作者姓名:王洪波
作者单位: 
摘    要:四十多年以来,半导体工业最明显的特征之一,就是它的产品的更新换代非常迅速。重要的改进趋势以及每种趋势的典型范例如表A所示。绝大部分的改进和提高都是由一个重要特征决定的,即:制造集成电路的最小尺寸可以不断地呈指数性地迅速缩小。显然,我们最常引用的趋势就是集成度,也就是通常所说的摩尔提出来并以他的名字命名的“摩尔定律”(每个芯片上的元件数量大约每隔24个月增加1倍)。

关 键 词:半导体技术  路线图  综述  国际  摩尔定律  半导体工业  最小尺寸  集成电路
本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号