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| 钽／硅多层膜在550℃退火后的局域扩散反应 | |
| 作者姓名： | 卢江 李凡庆 |
| 作者单位： | 中国科技大学结构分析开放实验室，南京大学物理系 |
| 摘 要： | 钽／硅多层膜在５５０℃退火后的局域扩散反应卢江，李凡庆，陈志文，谭舜，陆斌，张庶元，王路春，李齐（中国科技大学结构分析开放实验室，合肥２３００２６）（南京大学物理系）多层膜提供了一个具有大量界面的扩散、晶化、固相反应的系统。本文研究了在５５０℃退火后... |
| 关 键 词： | 薄膜 多层膜 钽 硅 退火 显微结构 扩散 |
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