纳米SiO2在紫外光固化体系中的分散稳定性 |
| |
引用本文: | 徐国财,李爱元,储昭荣. 纳米SiO2在紫外光固化体系中的分散稳定性[J]. 涂料工业, 2003, 33(8): 12-14 |
| |
作者姓名: | 徐国财 李爱元 储昭荣 |
| |
作者单位: | 安徽理工大学化学工程系,淮南,232001 |
| |
基金项目: | 安徽省自然科学基金(00046313),安徽省教育厅科研基金(2001kj237zd) |
| |
摘 要: | 将纳米SiO2分散到紫外光固化体系,通过紫外光原位固化制得纳米SiO2/聚丙烯酸酯复合涂层。纳米SiO2的分散稳定性受活性稀释单体、齐聚物和纳米SiO2含量等因素影响。红外光谱测试表明,纳米SiO2与有机基料产生相互作用。TEM表明,复合涂层中纳米SiO2呈有效的分散状态。
|
关 键 词: | 纳米SiO2 紫外光固化体系 分散稳定性 纳米复合材料 聚丙烯酸酯复合涂层 |
文章编号: | 0253-4312(2003)08-0012-03 |
修稿时间: | 2003-04-22 |
Dispersing Stability of Nano-Scale Silica in UV Curing System |
| |
Abstract: | |
| |
Keywords: | |
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录! |
|