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纳米SiO2在紫外光固化体系中的分散稳定性
引用本文:徐国财,李爱元,储昭荣. 纳米SiO2在紫外光固化体系中的分散稳定性[J]. 涂料工业, 2003, 33(8): 12-14
作者姓名:徐国财  李爱元  储昭荣
作者单位:安徽理工大学化学工程系,淮南,232001
基金项目:安徽省自然科学基金(00046313),安徽省教育厅科研基金(2001kj237zd)
摘    要:将纳米SiO2分散到紫外光固化体系,通过紫外光原位固化制得纳米SiO2/聚丙烯酸酯复合涂层。纳米SiO2的分散稳定性受活性稀释单体、齐聚物和纳米SiO2含量等因素影响。红外光谱测试表明,纳米SiO2与有机基料产生相互作用。TEM表明,复合涂层中纳米SiO2呈有效的分散状态。

关 键 词:纳米SiO2 紫外光固化体系 分散稳定性 纳米复合材料 聚丙烯酸酯复合涂层
文章编号:0253-4312(2003)08-0012-03
修稿时间:2003-04-22

Dispersing Stability of Nano-Scale Silica in UV Curing System
Abstract:
Keywords:
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