| 掺杂ZnO薄膜的研究现状 |
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| 引用本文： | 文军,陈长乐,潘峰,吴小丽,张修兴. 掺杂ZnO薄膜的研究现状[J]. 材料导报, 2008, 22(Z1) |
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| 作者姓名： | 文军 陈长乐 潘峰 吴小丽 张修兴 |
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| 摘 要： | ZnO薄膜的性质取决于不同的掺杂元素和不同的制备工艺.概述了掺杂ZnO薄膜的研究现状,分析了不同掺杂组分对ZnO薄膜的p型转变特性、发光特性以及铁磁性质的影响,认为稀土掺杂可能使ZnO薄膜产生新的发光特性,共掺杂技术可能是实现ZnO薄膜特性改变的新途径.
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| 关 键 词： | ZnO薄膜 P型掺杂 稀土掺杂 受激发光 稀磁半导体 |
Recent Research Progress in Doped ZnO Thin Films |
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| WEN Jun,CHEN Changle,PAN Feng,WU Xiaoli,ZHANG Xiuxing. Recent Research Progress in Doped ZnO Thin Films[J]. Materials Review, 2008, 22(Z1) |
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| Authors: | WEN Jun CHEN Changle PAN Feng WU Xiaoli ZHANG Xiuxing |
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