| 单晶硅上电沉积Cu/Co纳米多层膜及其巨磁电阻效应 |
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| 引用本文： | 姚素薇,赵瑾,张卫国,董大为.单晶硅上电沉积Cu/Co纳米多层膜及其巨磁电阻效应[J].化工学报,2004,55(3):414-417. |
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| 作者姓名： | 姚素薇 赵瑾 张卫国 董大为 |
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| 作者单位： | 天津大学化工学院杉山表面技术研究室,天津,300072;天津大学化工学院杉山表面技术研究室,天津,300072;天津大学化工学院杉山表面技术研究室,天津,300072;天津大学化工学院杉山表面技术研究室,天津,300072 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金 (No 5 0 0 710 3 9,5 0 2 710 46)，教育部、天津大学、南开大学联合研究院资助项目~ |
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| 摘 要： | 采用双脉冲控电位技术在单晶硅上沉积了一系列Cu/Co纳米多层膜，调制波长从200nm到5nm不等.用扫描电镜及X射线衍射对多层膜的调制结构进行了表征.采用四探针法测试多层膜的巨磁电阻（GMR）效应，研究了GMR与调制波长（λ）、铜的子层厚度（δCu）的关系：λ较大时，没有观察到明显的GMR效应；λ＜30nm时，GMR效应随λ减小而增大；而λ＜8nm时，GMR值随铜层厚度的变化周期性振荡.
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| 关 键 词： | Cu/Co纳米多层膜 巨磁电阻 电沉积 |
| 文章编号： | 0438-1157(2004)03-0414-04 |
| 收稿时间： | 2002-11-14 |
| 修稿时间： | 2002年11月14 |
ELECTRODEPOSITE Cu/Co NANOMULTILAYER ON SINGLE CRYSTAL Si AND ITS GIANT MAGNETORESISTANCE EFFECT |
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| YAO Suwei,ZHAO Jin,ZHANG Weiguo,DONG Dawei.ELECTRODEPOSITE Cu/Co NANOMULTILAYER ON SINGLE CRYSTAL Si AND ITS GIANT MAGNETORESISTANCE EFFECT[J].Journal of Chemical Industry and Engineering(China),2004,55(3):414-417. |
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| Authors: | YAO Suwei ZHAO Jin ZHANG Weiguo DONG Dawei |
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| Abstract: | In this study，a series of Cu/Co nanomultilayers with the wavelength from 200nm to 5nm were prepared by using single-bath methods and the multilayered structure was studied by using SEM and XRD. The relationship between giant magnetoresistance (GMR) and wavelength(λ) and Cu layer thickness（δCu） of the multilayer was investigated by using four point probe technique.When λ was rather big，no GMR effect was found.When λ was smaller than 30nm，GMR increased with the decrease of λ，but when λ was smaller than 8nm，GMR vibrated periodically with the change of Cu layer thickness. |
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| Keywords: | Cu/Co nanomultilayer giant magnetoresistance(GMR) electrodeposition |
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