| 纯Ni及其溅射纳米晶的高温氧化行为 |
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| 引用本文： | 耿树江,朱圣龙,王福会. 纯Ni及其溅射纳米晶的高温氧化行为[J]. 中国腐蚀与防护学报, 2003, 23(6): 335-339 |
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| 作者姓名： | 耿树江 朱圣龙 王福会 |
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| 作者单位： | 中国科学院金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳,110016 |
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| 基金项目： | 国家杰出青年基金 ( 5 962 5 10 3 )，国家自然科学基金( 5 99710 5 2 )，中科院百人计划资助项目 |
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| 摘 要： | 用磁控溅射方法在电解纯Ni上溅射了一层与其成分相同的纳米晶涂层．研究了纯Ni及其溅射纳米晶涂层在700℃～900℃的氧化行为．结果表明：在同一温度下，纳米晶纯Ni的氧化增重高于纯Ni，即经溅射纳米化纯Ni的氧化速率变快．利用扫描隧道显微镜、带能谱的扫描电镜和X射线衍射对样品的表面和截面进行了分析，并讨论了其氧化机理．
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| 关 键 词： | 纯Ni 溅射 纳米晶 氧化 |
| 文章编号： | 1005-4537(2003)06-0335-05 |
HIGH TEMPERATURE OXIDATION BEHAVIOR OF PURE Ni AND ITS SPUTTERED NANOCRYSTALLINE COATING |
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| GENG Shujiang,ZHU Shenglong,WANG Fuhui. HIGH TEMPERATURE OXIDATION BEHAVIOR OF PURE Ni AND ITS SPUTTERED NANOCRYSTALLINE COATING[J]. Journal of Chinese Society For Corrosion and Protection, 2003, 23(6): 335-339 |
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| Authors: | GENG Shujiang ZHU Shenglong WANG Fuhui |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | pure Ni sputtering nanocrystalline oxidation |
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