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CMOS/SOI4kb静态随机存储器
引用本文:刘新宇,孙海峰,刘洪民,韩郑生,海潮和. CMOS/SOI4kb静态随机存储器[J]. 功能材料与器件学报, 2002, 8(2): 165-169
作者姓名:刘新宇  孙海峰  刘洪民  韩郑生  海潮和
作者单位:中国科学院微电子中心,北京100029
摘    要:对一种CMOS/SOI4kb静态随机存储器进行了研究,其电路采用1k×4的并行结构体系.为了提高电路的速度和降低功耗,采用地址转换监控Address-Translate-Detector(ATD)、两级字线Double-Word-Line(DWL)和新型的两级灵敏放大等技术,其地址取数时间为30ns,最小动态工作电流为30mA(工作电压5V,工作频率2MHz),静态维持电流为1mA.CMOS/SOI4kb静态随机存储器采用1.2μm单层多晶、双层金属的SOICMOS抗辐照工艺技术,其六管存储单元尺寸较小12.8μm×8.4μm,芯片尺寸为3.6mm×3.84mm.

关 键 词:CMOS/SOI 静态随机存储器 ATD电路 DWL技术 抗辐照工艺
文章编号:1007-4252(2002)02-0165-05
修稿时间:2001-08-27

CMOS/SOI 4kb SRAM
LIU Xin -yu,SUN Hai -feng,LIU Hong -min,HAN Zheng -sheng,HAI Chao -he. CMOS/SOI 4kb SRAM[J]. Journal of Functional Materials and Devices, 2002, 8(2): 165-169
Authors:LIU Xin -yu  SUN Hai -feng  LIU Hong -min  HAN Zheng -sheng  HAI Chao -he
Abstract:
Keywords:ATD circuit  DWL technology  Anti -irradiation  
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