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a—C:H(N)类金刚石薄膜的结构及内应力分析
引用本文:陈建国 程宇航 等. a—C:H(N)类金刚石薄膜的结构及内应力分析[J]. 硅酸盐学报, 2002, 30(2): 224-229
作者姓名:陈建国 程宇航 等
作者单位:华中科技大学塑性成型模拟及模具技术国家重点实验室 武汉430074(陈建国,程宇航,吴一平),华中科技大学塑性成型模拟及模具技术国家重点实验室 武汉430074(乔学亮)
摘    要:采用射频等离子增强化学气相沉积法制备出a-C:H(N)类金刚石薄膜,用X射线光电子能普、红外吸收光谱和慢正电子湮灭谱研究了薄膜的结构,用弯曲法测定了薄膜的内应力。随着混合气体中N2的含量从0增加到75%,薄膜中N量可增加到9.09%(摩尔分数),N原子与C原子以C-N,C=N和C≡N键的形式结合,薄膜中的缺陷密度随含N量而增加,而薄膜的内应力则随着薄膜中N含量的增加而单调降低。

关 键 词:类金刚石薄膜 掺氮大晶碳氢膜 内应力 等离子增强化学气相沉积 结构
文章编号:0454-5648(2002)02-0224-06
修稿时间:2001-08-13

STRUCTURE AND INTERNAL STRESS OF NITROGEN-DOPED AMORPHOUS HYDROGENATED CARBON FILMS
CHEN Jianguo,CHENG Yuhang,WU Yiping,QIAO Xueliang. STRUCTURE AND INTERNAL STRESS OF NITROGEN-DOPED AMORPHOUS HYDROGENATED CARBON FILMS[J]. Journal of The Chinese Ceramic Society, 2002, 30(2): 224-229
Authors:CHEN Jianguo  CHENG Yuhang  WU Yiping  QIAO Xueliang
Abstract:
Keywords:diamond_like carbon films  nitrogen_depped amorphous hydrogenated carbon films  internal stress  radio frequency chemical vapour deposition
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