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| 分子印迹聚合物的应用及辐射合成研究进展 | |
| 引用本文： | 周成飞.分子印迹聚合物的应用及辐射合成研究进展[J].合成技术及应用,2016(3):11-15. |
| 作者姓名： | 周成飞 |
| 作者单位： | 北京市射线应用研究中心辐射新材料北京市重点实验室,北京,100015 |
| 摘 要： | 分子印迹聚合物是分子印迹技术与聚合物膜技术相结合而发展起来的一种新型聚合物材料,不管是应用方面,还是合成上都取得了很大进展。本文主要介绍了分子印迹聚合物在分析检测、分离萃取等方面的应用,并着重综述了射线辐射法、光辐射法及微波辐射法制备分子印迹聚合物的研究进展。 |
| 关 键 词： | 分子印迹聚合物 辐射技术 射线辐射 光辐射 微波辐射 |
Progress in application and radiation synthesis of molecularly imprinted polymers |
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