| 磁控溅射抗EMI金属膜的研究 |
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| 引用本文： | 陈省区,王德苗,赵欢畅,任高潮. 磁控溅射抗EMI金属膜的研究[J]. 真空, 2008, 45(3): 40-43 |
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| 作者姓名： | 陈省区 王德苗 赵欢畅 任高潮 |
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| 作者单位： | 浙江大学信电系,浙江,杭州,310027 |
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| 摘 要： | 首先对金属屏蔽的机理以及Schelkunoff电磁屏蔽理论进行了分析,然后采用磁控溅射的方法在PET塑料上沉积了Cu/1Cr18Ni9Ti,并采用波导的方法对样品的屏蔽效能进行了测试.研究表明单次反射损耗对屏蔽效能的贡献最大,双面金属膜层比单面金属膜层具有更高的屏蔽效果.
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| 关 键 词： | 电磁屏蔽 磁控溅射 屏蔽效能 塑料基底 磁控溅射 金属膜层 研究 magnetron sputtering thin films 屏蔽效果 单面 反射损耗 测试 屏蔽效能 样品 导的方法 沉积 塑料 分析 屏蔽理论 电磁 Schelkunoff 机理 金属屏蔽 |
| 文章编号： | 1002-0322(2008)03-0040-04 |
| 修稿时间： | 2008-01-14 |
On the anti-EMI metal thin films deposited by magnetron sputtering |
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| CHEN Sheng-qu,WANG De-miao,ZHAO Huan-chang,REN Gao-chao. On the anti-EMI metal thin films deposited by magnetron sputtering[J]. Vacuum(China), 2008, 45(3): 40-43 |
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| Authors: | CHEN Sheng-qu WANG De-miao ZHAO Huan-chang REN Gao-chao |
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