| 100%填充因子的硅微透镜阵列的制作 |
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| 引用本文： | 闫建华,欧文,欧毅.100%填充因子的硅微透镜阵列的制作[J].半导体学报,2012,33(3):034008-4. |
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| 作者姓名： | 闫建华 欧文 欧毅 |
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| 作者单位： | 中国科学院微电子研究所 |
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| 基金项目： | 中国大学生自然科学基金 |
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| 摘 要： | 本文成功制作出了表面光滑且具有100%填充因子的硅微阵列阵列结构。制作流程包括：旋涂光刻胶，热熔融和反应离子可是转移。首先，在硅衬底上旋涂SU-8光刻胶，并光刻显影；其次，热熔融和热处理光刻胶阵列得到光刻胶微透镜阵列；最后，反应离子刻蚀转移形成硅微透镜阵列。实验表明，通过调节反应离子刻蚀气体SF6和O2的量分别到60sccm和50sccm，就可以得到无间距的硅微透镜阵列。在此种情况下，光刻胶和硅衬底的刻蚀速率比值为1:1.44。单个微透镜底端尺寸为30.1微米，高度为3微米，焦距在15.4微米到16.6微米之间。
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| 关 键 词： | 热回流 微透镜阵列 反应离子刻蚀 SU8-2005光刻胶 |
Fabrication of a 100% fill-factor silicon microlens array |
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| Yan Jianhu,Ou Wen and Ou Yi.Fabrication of a 100% fill-factor silicon microlens array[J].Chinese Journal of Semiconductors,2012,33(3):034008-4. |
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| Authors: | Yan Jianhu Ou Wen and Ou Yi |
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| Affiliation: | Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100029, China;Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100029, China;Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100029, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | thermal reflow microlens array RIE SU8-2005 photoresist |
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