离子束辅助沉积制备多晶Al2O3薄膜 |
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引用本文: | 王晨,杨杰.离子束辅助沉积制备多晶Al2O3薄膜[J].材料科学进展,1993,7(6):521-525. |
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作者姓名: | 王晨 杨杰 |
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摘 要: | 利用电子枪蒸镀Al2O3,同时辅以Ar离子轰击的离子束辅助沉积方法(IBAD)制备Al2O3薄膜,并与单纯电子枪蒸镀方法(PVD)制备的薄膜进行了结构和表面形貌的比较,IBAD法可以得到结构均匀致密的γ-Al2O3晶态薄膜,而PVD9方法仅能得到非晶态疏松的结构,分析结果表明,薄膜沉积过程中,提高离子轰击能量和增加基片加热温度在一定程度上具有相同的效果。
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关 键 词: | 离子束 氧化铝 薄膜 物理气相沉积 |
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