| 极紫外光刻物镜系统波像差检测技术研究 |
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| 引用本文： | 张宇,金春水,马冬梅,王丽萍.极紫外光刻物镜系统波像差检测技术研究[J].红外与激光工程,2012(12):3384-3389. |
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| 作者姓名： | 张宇 金春水 马冬梅 王丽萍 |
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| 作者单位： | 东北电力大学理学院;中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室 |
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| 基金项目： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室资助项目(09Q03FQ090) |
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| 摘 要： | 为了实现对极紫外光刻物镜系统波像差的超高精度检测,引入了双光纤相移点衍射干涉仪,对其检测方案进行了优化设计,在相移系统和光程差调节系统中引入了特伦结构,并且对光纤端面进行了抛光镀膜处理。将影响干涉仪检测精度及波面重复精度的误差源引入到干涉图中进行整体分析,得到干涉仪的检测精度及波面重复精度,为了验证双光纤相移点衍射干涉仪的切实可行性及理论分析结果的正确性,搭建了原理实验装置,对同一被检光学系统进行了512次测量,将其分成8组,最终8组测量的波面重复精度能够达到0.13 nm,优于λ/4000。
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| 关 键 词： | 光学检测 双光纤相移点衍射干涉仪 精度分析 波面重复精度 |
Measuring technology for wavefront aberration of EUVL objective system |
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| Zhang Yu,Jin Chunshui,Ma Dongmei,Wang Liping.Measuring technology for wavefront aberration of EUVL objective system[J].Infrared and Laser Engineering,2012(12):3384-3389. |
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| Authors: | Zhang Yu Jin Chunshui Ma Dongmei Wang Liping |
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| Affiliation: | 1.College of Science,Northeast Dianli University,Jilin 132012,China; 2.State Key Laboratory of Applied Optics,Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences,Changchun 130033,China) |
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