| 使用低发射率膜层的目标红外特性分析 |
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| 引用本文： | 任登凤,韩玉阁,宣益民.使用低发射率膜层的目标红外特性分析[J].红外与激光工程,2012(11):2916-2920. |
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| 作者姓名： | 任登凤 韩玉阁 宣益民 |
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| 作者单位： | 南京理工大学能源与动力工程学院 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金面上项目(50776047) |
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| 摘 要： | 随着红外探测与红外制导技术的发展,军用目标的红外隐身及其评估技术的研究具有越来越重要的军事意义。低发射率膜层是军用目标红外隐身的重要手段之一,低发射率膜层的红外隐身效果评估是研制低发射率膜层的基础。综合考虑目标与外部环境间的对流和辐射换热关系,建立了涂有膜层的目标的温度与红外辐射特性的模型,编制了相应的数值计算程序。针对两种低发射率膜层,计算了添加膜层前后目标表面温度和红外辐射随时间的变化规律,以此分析了膜层的红外隐身效果。结果表明,膜层发射率的选择应考虑被膜层控制的波长以及外部环境的综合影响。
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| 关 键 词： | 低发射率膜层 红外特性 红外隐身效果评估 |
Analysis on infrared signature of the target with low emissivity film |
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| Ren Dengfeng,Han Yuge,Xuan Yimin.Analysis on infrared signature of the target with low emissivity film[J].Infrared and Laser Engineering,2012(11):2916-2920. |
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| Authors: | Ren Dengfeng Han Yuge Xuan Yimin |
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| Affiliation: | (School of Energy and Power Engineering,Nanjing University of Science and Technology,Nanjing 210094,China) |
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