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纯铜表面纳米化对Ti离子注入的影响
引用本文:林万明,卫英慧,杜华云,毕海香,侯利锋. 纯铜表面纳米化对Ti离子注入的影响[J]. 功能材料, 2009, 40(9)
作者姓名:林万明  卫英慧  杜华云  毕海香  侯利锋
作者单位:太原理工大学,材料科学与工程学院,山西,太原,030024
基金项目:国家自然科学基金资助项目(50471070);;山西省留学回国人员科研资助项目(2006-32)
摘    要:为了改善金属材料表面的综合性能,将表面改性技术和纳米技术相结合逐渐得到了人们的重视.用金属蒸气孤(MEVVA)源离子注入机,将能量为40keV,剂量为2×1017iONS/cm2的Ti离子注入纳米纯铜中.利用透射电子显微镜(TEM)、X射线衍射仪(XRD)、俄歇电子能谱(AES)对表层组织及注入浓度分布等进行了分析.研究结果表明,纯铜表面经过SMAT纳米化处理后,注入元素的浓度呈现高斯分布,与未处理的样品相比,峰值浓度提高了30%,注入深度达到160nm.

关 键 词:表面纳米化  离子注入  

Influence of surface nanocrystalline of copper on Ti ions implantation
LIN Wan-ming , WEI Ying-hui , DU Hua-yun , BI Hai-xiang , HOU Li-feng. Influence of surface nanocrystalline of copper on Ti ions implantation[J]. Journal of Functional Materials, 2009, 40(9)
Authors:LIN Wan-ming    WEI Ying-hui    DU Hua-yun    BI Hai-xiang    HOU Li-feng
Affiliation:College of Material Science and Engineering;Taiyuan University of Technology;Taiyuan 030024;China
Abstract:
Keywords:surface nanocrystalline  ion implantation  copper  
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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