多晶硅还原炉内主要残留物及清理工艺 |
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引用本文: | 路俊玲.多晶硅还原炉内主要残留物及清理工艺[J].军民两用技术与产品,2016(12):126-126. |
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作者姓名: | 路俊玲 |
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作者单位: | 洛阳中硅高科技有限公司,洛阳,471023 |
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摘 要: | 在新技术的推动下,多晶硅的生产过程会更加注重对还原炉内的残留物进行有效清理工作,因此针对如何提升还原炉内的清洁程度、保证多晶硅在生产过程中的高效性和纯净性,成为目前提炼多晶硅工作重点攻克的问题。本文围绕多晶硅还原炉作为中心围绕点,以满足还原炉内的清洁为目的,通过分析清理多晶硅还原炉内残留物等污垢的具体技术,来保证多晶硅生产过程中还原炉内的洁净程度和还原炉作业的稳定性,进一步提升多晶硅提炼的纯度,促进多晶硅生产效率,保障生产效益。
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关 键 词: | 多晶硅 还原炉 残留物 |
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