| 等离子增强型化学气相沉积条件对氮化硅薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 李新贝,张方辉,牟强.等离子增强型化学气相沉积条件对氮化硅薄膜性能的影响[J].材料保护,2006,39(7):12-16. |
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| 作者姓名： | 李新贝 张方辉 牟强 |
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| 作者单位： | 陕西科技大学电气与电子工程学院,陕西,咸阳,712081 |
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| 摘 要： | 等离子增强型化学气相沉积(PECVD)氮化硅技术是目前半导体器件在合金化后低温生长氮化硅的唯一方法.研究了由进口PECVD设备制备的氮化硅薄膜性质与沉积条件的关系,测定了生成膜的各种物理化学性能,详细探讨了各种沉积参数对薄膜性能的影响,提出了沉积优质氮化硅薄膜的工艺条件.
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| 关 键 词： | 等离子增强型化学气相沉积 氮化硅 薄膜性能 |
| 文章编号： | 1001-1560（2006）07-0012-05 |
| 收稿时间： | 2006-02-25 |
| 修稿时间： | 2006-02-25 |
Effect of Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Parameters on Characteristics of Silicon nitride Film |
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| LI Xin-bei,ZHANG Fang-hui.Effect of Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Parameters on Characteristics of Silicon nitride Film[J].Journal of Materials Protection,2006,39(7):12-16. |
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| Authors: | LI Xin-bei ZHANG Fang-hui |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | plasma enhanced chemical vapor deposition silicon nitride thin film characteristics |
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