| 金属Ti/Cu多层膜紫外光反射性能研究 |
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| 引用本文： | 罗佳慧,李燕,杨成韬. 金属Ti/Cu多层膜紫外光反射性能研究[J]. 功能材料, 2001, 32(1): 93-94 |
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| 作者姓名： | 罗佳慧 李燕 杨成韬 |
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| 作者单位： | 电子科技大学信息材料工程学院, |
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| 摘 要： | 采用直流磁控溅射方法制备Ti/Cu和Cu/Nb多层金属反射膜，并对膜的紫外反射性能进行研究，发现该膜的反射性能与基片的结构和温度、多层膜的周期和结构有关。选用取向为（100）的单晶Si为基片，在基片温度为470℃左右、多层膜的周期为30时，膜的结晶性较好，且多层膜的反射率随波长的减小而增加，在波长为250nm时，反射率可达到65％。
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| 关 键 词： | 多层金属膜 直流磁控溅射 紫外反射率 |
| 文章编号： | 1001-9731(2001)01-0093-02 |
| 修稿时间： | 1999-04-20 |
Study on UV Optics Reflecting Characteristics of Ti/Cu Metal Multilayer Films |
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| LUO Jiahui,LI Yan,YANG Chengtao. Study on UV Optics Reflecting Characteristics of Ti/Cu Metal Multilayer Films[J]. Journal of Functional Materials, 2001, 32(1): 93-94 |
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| Authors: | LUO Jiahui LI Yan YANG Chengtao |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | metal multilayer films DC magnetron sputtering UV reflectivity |
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