首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

在不同水基纳米TiN流体中铜片的腐蚀行为
摘    要:以不同添加量的十六烷基三甲基溴化铵(CTMAB)、N-聚乙烯吡咯烷酮(PVP)以及两者的混合物为分散剂,以自来水、去离子水、膜处理水为分散介质,在不同超声分散时间下分别制备得到了不同的纳米TiN流体,研究了铜片在这些流体中的腐蚀行为。结果表明:当以CTMAB为分散剂时能促进铜片的腐蚀,铜片腐蚀速率随CTMAB含量的增加而增大,随着超声分散时间的延长先急剧下降,当超过8min后变化较小,最佳超声分散时间为8min;当以PVP为分散剂时能抑制铜片的腐蚀,铜片的腐蚀速率随着PVP含量的增加而减小,随着超声分散时间的延长先增后降,最佳超声分散时间为6~8min;当以自来水为分散介质时铜片的腐蚀速率最大,其次为以去离子水为分散介质的,以膜处理水为分散介质的最小。

本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号