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TiAlN/SiO2太阳能选择性吸收薄膜的制备与研究
引用本文:余超,冒守栋,汪少杰,谢婷婷,孙可卿,宋振纶.TiAlN/SiO2太阳能选择性吸收薄膜的制备与研究[J].材料导报,2012,26(22):43-46.
作者姓名:余超  冒守栋  汪少杰  谢婷婷  孙可卿  宋振纶
作者单位:中国科学院宁波材料技术与工程研究所,宁波,315201
基金项目:国家科技支撑计划,宁波市自然基金,宁波市科技创新团队先进涂层与薄膜材料
摘    要:采用直流磁控溅射法在铜基底上制备了TiAlN/SiO2选择性吸收薄膜。通过调整制备过程中的工艺参数,得到优化后的组合薄膜(铜基底),其吸收率可达0.92、发射率为0.06。在此组合膜系中,TiAlN为吸收层,SiO2为减反层。对基底为铜片的样品在550℃退火2h,其性质保持稳定,表明TiAlN/SiO2组合薄膜在高温太阳能选择性吸收领域具有一定的应用前景。

关 键 词:选择性吸收薄膜  吸收率  发射率  热稳定性

Preparation and Characterization of TiAlN/SiO2 Solar Selective Absorbing Film
YU Chao , MAO Shoudong , WANG Shaojie , XIE Tingting , SUN Keqing , SONG Zhenlun.Preparation and Characterization of TiAlN/SiO2 Solar Selective Absorbing Film[J].Materials Review,2012,26(22):43-46.
Authors:YU Chao  MAO Shoudong  WANG Shaojie  XIE Tingting  SUN Keqing  SONG Zhenlun
Affiliation:(Ningbo Institute of Materials Technology and Engineering,Chinese Academy of Sciences,Ningbo 315201)
Abstract:
Keywords:
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