| 微流控芯片透光性基底SU8曝光工艺 |
| |
| 引用本文： | 朱学林,郭育华,刘刚,田扬超,褚家如.微流控芯片透光性基底SU8曝光工艺[J].功能材料与器件学报,2008,14(2):426-430. |
| |
| 作者姓名： | 朱学林 郭育华 刘刚 田扬超 褚家如 |
| |
| 作者单位： | 中国科学技术大学精密机械仪器系,安徽合肥,230026;国家同步辐射实验室,安徽合肥,230026 |
| |
| 基金项目： | 王宽诚教育基金
,
中国科学院知识创新工程项目 |
| |
| 摘 要： | 研究了在透光性基底上直接光刻SU8光刻胶制作可实现光集成微流控芯片的工艺,讨论了基底厚度、透光性和样品承载台表面反射性等因素对透光性基底上SU8光刻图形质量的影响.研究结果表明,通过减少样品承载台表面对紫外光的反射,可有效的解决光刻胶内非定义曝光区域出现感光交联的问题.
|
| 关 键 词： | 微流控芯片 透光性基底 SU8光刻 |
| 文章编号： | 1007-4252(2008)02-0426-05 |
| 修稿时间： | 2007年7月20日 |
SU8 lithography process in fabrication of transparent microfluidic chips |
| |
| ZHU Xue-lin,GUO Yu-hua,LIU Gang,TIAN Yang-chao,CHU Jia-ru.SU8 lithography process in fabrication of transparent microfluidic chips[J].Journal of Functional Materials and Devices,2008,14(2):426-430. |
| |
| Authors: | ZHU Xue-lin GUO Yu-hua LIU Gang TIAN Yang-chao CHU Jia-ru |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
