| 1800℃下具有优异高强度且含氧化物杂质的高熵二硼化物陶瓷（英文） |
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| 作者姓名： | 柳洁 杨青青 邹冀 王为民 王新刚 傅正义 |
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| 作者单位： | 1. State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing,Wuhan University of Technology;3. Shanghai Institute of Ceramics,Chinese Academy of Sciences |
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| 基金项目： | supported by the National Natural Science Foundation of China (52022072, 51972243, 92060202 and 52202067)；;the National Key R&D Programs (2021YFB3701400)；;Hubei Provincial Natural Science Foundation of China (Distinguished Young Scholars 2022CFA042)； |
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| 摘 要： | 以硼热/碳热还原合成高熵二硼化物粉体为原料,在2000℃/单轴加压50 MPa条件下,经10分钟放电等离子烧结,成功制备了含有～2 vol%的氧化物和～1 vol%气孔的高熵(Ti0.2Zr0.2Nb0.2Hf0.2Ta0.2)B2陶瓷(HEBs).经研究确认,其中残留氧化物是固溶少量硼和碳的m-(Hf,Zr)O2.室温下HEBs的弹性模量、维氏硬度和断裂韧性分别为508.5 GPa、17.7±0.4 GPa和4.2±0.2 MPa m1/2.烧结得到的HEBs具有优良的抗弯强度,特别是其高温强度.HEBs在室温、1600和1800℃下的四点抗折强度分别为400.4±47.0 MPa、695.9±55.9 MPa和751.6±23.2 MPa.对1800℃下断裂的HEBs样品进行了失效分析,在其拉伸和断裂面附近区域,仅在裂纹尖端和孔隙边缘发现了数量有限的位错线的存在,没有观察到位错运动的痕迹.本研究首次报道了高熵...
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