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热丝CVD大面积金刚石薄膜的生长动力学研究
引用本文:汪爱英,柯培玲,孙超,黄荣芳,闻立时. 热丝CVD大面积金刚石薄膜的生长动力学研究[J]. 新型炭材料, 2005, 20(3): 229-234
作者姓名:汪爱英  柯培玲  孙超  黄荣芳  闻立时
作者单位:中国科学院,金属研究所,辽宁,沈阳,110016
基金项目:辽宁省科委资助项目和国家自然科学基金(59292800)
摘    要:在传统工业型热丝化学气相沉积(HFCVD)反应腔内,相关工艺参数取模拟计算优化值的条件下,采用XRD,SEM及Raman光谱等分析手段研究了单晶Si(100)上较大面积金刚石薄膜的动力学生长行为,讨论了晶格取向的变化规律。结果表明:优化工艺参数条件下,在模拟计算的衬底温度和气体温度分布均匀的区域内,沉积的金刚石薄膜虽存在一定的内应力,但整体薄膜连续、均匀,几何晶形良好,质量较高,生长速率达1.8μm/h。薄膜生长过程中晶形显露面受衬底温度和活性生长基团浓度的影响较大。

关 键 词:热丝化学气相沉积 金刚石薄膜 动力学生长 模拟计算
文章编号:1007-8827(2005)03-0229-06
收稿时间:2004-11-31
修稿时间:2005-08-14

The kinetics of diamond films growth over large area by hot-filament CVD
WANG Ai-ying,KE Pe-ling,SUN Chao,HUANG Rong-fang,WEN Li-shi. The kinetics of diamond films growth over large area by hot-filament CVD[J]. New Carbon Materials, 2005, 20(3): 229-234
Authors:WANG Ai-ying  KE Pe-ling  SUN Chao  HUANG Rong-fang  WEN Li-shi
Abstract:
Keywords:Hot-filament CVD    Diamond films    Growth kinetics    Simulations
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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