| 用于宽光谱减反射膜的热压印图形转移的研究 |
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| 引用本文： | 高鹏,薛超,张启明,肖志斌,孙强.用于宽光谱减反射膜的热压印图形转移的研究[J].电源技术,2015,39(7). |
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| 作者姓名： | 高鹏 薛超 张启明 肖志斌 孙强 |
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| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第十八研究所,天津,300384 |
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| 摘 要： | 提出在Al In P窗口层上,利用纳米热压印技术加工微圆锥阵列结构实现宽光谱减反射膜的方法。通过设计仿真,Al In P微圆锥阵列结构,可实现400~1 700 nm光谱范围内平均反射率2.5%。纳米热压印技术利用制作的模板,在温度达到PMMA聚合物玻璃转化温度之上后施加一定的压力将模板压印到PMMA聚合物表面,使得纳米级模板结构转移到样品上。采用Obduct纳米压印机,研究图形转移的优化参数,制备出了具有高分辨率的热压印图形,为实现Al In P微圆锥阵列结构打下了良好的基础。
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| 关 键 词： | 图形转移 热压印 宽光谱 减反射膜 |
Pattern transfer fabricated by nano-imprint lithography for broadband antireflection layer |
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| GAO Peng,XUE Chao,ZHANG Qi-ming,XIAO Zhi-bin,SUN Qiang.Pattern transfer fabricated by nano-imprint lithography for broadband antireflection layer[J].Chinese Journal of Power Sources,2015,39(7). |
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| Authors: | GAO Peng XUE Chao ZHANG Qi-ming XIAO Zhi-bin SUN Qiang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | figure transfer hot embossing lithography broadband nano-antireflection layer |
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