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百叶轮抛光TC4的接触弧长试验研究
引用本文:鲜超,史耀耀,蔺小军,刘德.百叶轮抛光TC4的接触弧长试验研究[J].计算机集成制造系统,2020,26(5):1218-1232.
作者姓名:鲜超  史耀耀  蔺小军  刘德
作者单位:西北工业大学 现代设计与集成制造技术教育部重点实验室,陕西 西安 710072;西北工业大学 现代设计与集成制造技术教育部重点实验室,陕西 西安 710072;西北工业大学 现代设计与集成制造技术教育部重点实验室,陕西 西安 710072;西北工业大学 现代设计与集成制造技术教育部重点实验室,陕西 西安 710072
基金项目:国家自然科学基金;国家科技重大专项
摘    要:为了探究接触弧长与工艺参数之间的关系,在数控抛光机床上利用百叶轮进行了抛光TC4试块试验,通过抛光力的持续时间计算求得了接触弧长;以主轴转速、压缩量、进给速度和百叶轮粒度为工艺参数,建立了接触弧长和工艺参数之间的拟合方程,分析了工艺参数对接触弧长的影响规律及影响程度;建立最优化模型并获得了最优接触弧长和工艺参数;对抛光力和抛光区温度对接触弧长的影响进行了研究。结果表明,所建立的拟合方程拟合度非常高;主轴转速、压缩量与接触弧长为正相关关系,接触弧长随其余两个参数的增大先减小后增大;主轴转速和压缩量对接触弧长影响明显,进给速度和百叶轮粒度对接触弧长影响不大;理论最优接触弧长为6.398 6 mm,最优工艺参数为主轴转速4 000 r/min,压缩量为0.5 mm,进给速度每分钟190.8 mm/min,百叶轮粒度为220号;接触弧长与抛光力和抛光区温度均为正相关关系。

关 键 词:抛光  接触弧长  工艺参数  拟合方程  影响规律  影响程度  优化模型
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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