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图形发生器单元圆生成算法及填充策略
引用本文:商涛,薛虹.图形发生器单元圆生成算法及填充策略[J].微细加工技术,2003(2):6-11.
作者姓名:商涛  薛虹
作者单位:中科院电工所微纳电加工研究部,北京 100080
摘    要:随着微电子技术的发展,某些特殊器件如集成光栅的生产,需要进行圆弧图形的曝光。在Bresenham算法的基础上,提出了一种圆生成算法及填充策略。该方法通过设置决策函数和迭代增量,判断最接近圆函数曲线的象素点,从而得到和圆函数图形逼近较好的曲线图形。这种算法应用于以DSP芯片为基础的电子束曝光机图形发生器上,可以快速又较好地得出圆图形单元的各象素点,输出信号至D/A,通过信号转换控制偏转放大器绘制图形。此算法适于硬件完成,简化了数据处理过程,并提高了图形绘制速度和图形精度。

关 键 词:图形算法  图形发生器  DSP  电子束曝光  象素点  圆生成  填充策略  集成光栅
文章编号:1003-8213(2003)02-0006-06

Circle-generating Algorithm and Filling Strategy for Pattern Generator
Abstract:
Keywords:primitive algorithm  pattern generator  DSP  electron beam lithography
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