| 氧分压对室温制备掺铝氧化锌薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 闫宁宁,汪洪,刘静,左岩.氧分压对室温制备掺铝氧化锌薄膜性能的影响[J].硅酸盐学报,2013(9):1251-1257. |
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| 作者姓名： | 闫宁宁 汪洪 刘静 左岩 |
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| 作者单位： | 1. 中国建筑材料科学研究总院，北京 100024; 国家玻璃深加工工程技术中心，北京 100024; 绿色建筑材料国家重点实验室，北京 100024
2. 中国建筑材料科学研究总院，北京 100024; 国家玻璃深加工工程技术中心，北京 100024 |
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| 基金项目： | 十二五国家科技支撑计划(2011BAE14B01)资助项目。 |
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| 摘 要： | 室温下,采用脉冲直流反应磁控溅射方法在玻璃衬底上制备了掺铝的氧化锌(ZnO:Al,AZO)透明导电薄膜。采用配有λ-sensor氧分压传感器的控制器闭环控制氧分压,研究了氧分压对薄膜结构、表面形貌和光电性能的影响。结果表明:在不同的氧分压下制备的AZO薄膜均为多晶纤锌矿结构,具有002]择优取向,其晶体呈柱状生长,晶粒之间结合紧密。氧分压为3.36×10–2Pa时,AZO薄膜的性能指数最高,其电阻率为1.15×10–3·cm,相应的载流子浓度为2.1×1020/cm3,载流子迁移率为25.8cm2/(V s),可见光透射率为79.1%。随着AZO薄膜的载流子浓度由1.03×1020cm–3增加到3.64×1020cm–3,薄膜禁带宽度由3.49eV增大到3.72eV。
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| 关 键 词： | 掺铝的氧化锌 反应磁控溅射 氧分压 透明导电薄膜 |
Influence of Oxygen Partial Pressure on Properties of ZnO:Al Thin Films Fabricated at Room Temperature |
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| YAN Ningning
,
WANG Hong
,
LIU Jing
,
ZUO Yan.Influence of Oxygen Partial Pressure on Properties of ZnO:Al Thin Films Fabricated at Room Temperature[J].Journal of The Chinese Ceramic Society,2013(9):1251-1257. |
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| Authors: | YAN Ningning WANG Hong LIU Jing ZUO Yan |
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| Affiliation: | YAN Ningning;WANG Hong;LIU Jing;ZUO Yan;China Building Materials Academy;National Research Center for Glass Processing;State Key Laboratory of Green Building Materials; |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | aluminum-doped zinc oxide reactive magnetron sputtering oxygen partial pressure transparent conductive film |
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