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杂志ISSN号
先进封装投影光刻机
作者姓名:
周畅
作者单位:
上海微电子装备有限公司
摘 要:
随着先进封装技术的发展,对光刻的要求(CD均匀性、套刻精度等)将逐渐提高,当硅片尺寸逐渐增大到8英寸乃至12英寸时,步进投影式光刻机更具吸引力。SS B500系列先进封装步进投影式光刻机经过优化设计与改良,逐步具备良好的Bump等工艺适应性,并开始进入集成电路先进封装市场。作为精密而复杂的半导体制造设备,本文以实测数据表明SS B500/10A已实现良好的整机性能。
关 键 词:
先进封装
投影光刻机
关键尺寸(CD)
套刻
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