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液相生长热氧化法制备SnO2气体敏感薄膜
引用本文:王磊,杜军,毛昌辉,杨志民,熊玉华.液相生长热氧化法制备SnO2气体敏感薄膜[J].电子元件与材料,2007,26(5):14-17.
作者姓名:王磊  杜军  毛昌辉  杨志民  熊玉华
作者单位:北京有色金属研究总院先进电子材料研究所,北京,100088;北京有色金属研究总院先进电子材料研究所,北京,100088;北京有色金属研究总院先进电子材料研究所,北京,100088;北京有色金属研究总院先进电子材料研究所,北京,100088;北京有色金属研究总院先进电子材料研究所,北京,100088
基金项目:北京有色金属研究总院技术创新基金
摘    要:在不同的热氧化温度下,用液相生长热氧化法(RGTO)制备了SnO2薄膜。探讨了热氧化温度对SnO2薄膜结构和成分的影响,并进一步研究了不同热氧化温度下制备的SnO2薄膜的气敏性能。测试结果表明:260℃工作温度下,600℃热氧化制备的SnO2薄膜气敏元件,对氢气的灵敏度最佳。在100~1 000 mg.kg–1的氢气浓度范围内,灵敏度由47递增至70。

关 键 词:电子技术  SnO2  RGTO  薄膜  气敏
文章编号:1001-2028(2007)05-0014-04
修稿时间:2006-12-16

Preparation of SnO2 gas sensitive thin films by RGTO Method
WANG Lei,DU Jun,MAO Chang-hui,YANG Zhi-min,XIONG Yu-hua.Preparation of SnO2 gas sensitive thin films by RGTO Method[J].Electronic Components & Materials,2007,26(5):14-17.
Authors:WANG Lei  DU Jun  MAO Chang-hui  YANG Zhi-min  XIONG Yu-hua
Abstract:Rheotaxial growth and thermal oxidation(RGTO) method was used to deposit SnO2 thin films at different thermal oxidation temperature.The effects of thermal oxidation temperature on microstructure,surface composition and gas sensing properties of the SnO2 thin films were studied.The results show that the films oxidized at 600 ℃ have the best gas sensitivity on hydrogen at an operating temperature of 260 ℃.The gas sensitivity is increased from 47 to 70 when hydrogen gas concentration is in 100~1 000 mg.kg–1.
Keywords:electron technology  SnO2  RGTO  thin film  gas sensor
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