|
|||||
|
|
| 走向工业应用的离子辅助光学镀膜技术 | |
| 引用本文： | 尤大伟,李晓谦,王怡德,林永昌.走向工业应用的离子辅助光学镀膜技术[J].微细加工技术,2000(3):1-5. |
| 作者姓名： | 尤大伟 李晓谦 王怡德 林永昌 |
| 作者单位： | 1. 中国科学院空间科学与应用研究中心，北京100080 2. 北京仪器厂，北京100022 3. 北京理工大学，北京100081 |
| 摘 要： | 介绍一种新型等离子体辅助镀膜技术，使用该技术可使高质量的光学镀膜大量生产。该技术核心是无栅等离子体源（ＧＩＳ）。ＧＩＳ可以产生大面积的均匀等离子体。直径大于１０００ｍｍ。等离子体离子流强度高达０．５ｍＡ／ｃｍ＾２，离子流能量２０－２００ｅＶ，并能激活反应气体Ｏ２及蒸发原子，用ＧＩＳ进行的等离子体离子辅助镀膜这一技术，现正用于生产高质量的光学薄膜。 |
| 关 键 词： | 等离子体离子 无栅等离子体源 光学镀膜 |
| 文章编号： | 1003-8213(2000)03-0001-05 |
| 修稿时间： | 1999年12月13 |
Plasma Assisted Optical Deposition Technology For Industrial Applications |
|
| YOU Da?wei ,LI Xiao?qian ,WANG Yi?de ,LIN Yong?chang.Plasma Assisted Optical Deposition Technology For Industrial Applications[J].Microfabrication Technology,2000(3):1-5. | |
| Authors: | YOU Da?wei LI Xiao?qian WANG Yi?de LIN Yong?chang |
| Affiliation: | YOU Da?wei 1,LI Xiao?qian 1,WANG Yi?de 2,LIN Yong?chang 3 |
| Abstract: | |
| Keywords: | plasma assisted deposition gridless plasma source optical films |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ | |