| ZnO薄膜的制备方法、性质和应用 |
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| 引用本文： | 王光伟,张建民,郑宏兴,杨斐. ZnO薄膜的制备方法、性质和应用[J]. 真空, 2008, 45(5) |
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| 作者姓名： | 王光伟 张建民 郑宏兴 杨斐 |
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| 基金项目： | 天津市高等学校科技发展基金 |
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| 摘 要： | 介绍了宽禁带半导体ZnO薄膜的制备工艺、主要性质和器件应用等几方面内容.ZnO薄膜的制备方法大致分为物理法和化学法.前者主要包括溅射、脉冲激光沉积和分子束外延等;后者则涵盖化学气相沉积、喷雾热解和溶胶-凝胶法等.从晶体结构、光学及电学等角度概述了ZnO薄膜的主要性质.与这些性质相联系的器件应用有太阳能电池、发光器件和紫外探测器等.对器件应用领域中存在的一些问题及其解决思路作了探讨.
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| 关 键 词： | ZnO薄膜 制备工艺 光电特性 光电器件 |
ZnO thin films: preparation, basic performance and applications |
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| WANG Guang-wei,ZHANG Jian-min,ZHENG Hong-xing,YANG Fei. ZnO thin films: preparation, basic performance and applications[J]. Vacuum(China), 2008, 45(5) |
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| Authors: | WANG Guang-wei ZHANG Jian-min ZHENG Hong-xing YANG Fei |
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