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| 铜及其合金的化学抛光 | |
| 作者姓名： | 吴水清 |
| 作者单位： | 中国科学院高能物理所 |
| 摘 要： | 引言化学抛光是镀前处理的重要手段.这种工艺之所以得到广泛地运用,是因为它具有以下显著的特点:不需要外接电源和导电夹具,可抛光复杂形状和各种尺寸的零件,生产效率非常高.但它的缺点也十分明显:抛光质量比电抛光差,溶液使用寿命比较短,调整、再生困难,还析出有害气体.为此,许多电镀工作者进行了不懈地努力,取得了较为满意的结果.本文所涉及的铜及其合金的化学抛光,人们除了对常用的磷酸基溶液、硝酸基溶液进行改进外,还研究出许多新的工艺,新的配方,这是值得引以重视的. |
| 关 键 词： | 铜 铜合金 化学抛光 |
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