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WaferMasters推出表面光度测量系统OSP-300提供非破坏性晶圆表面表征
摘 要:
领先的晶圆处理技术及设备供应商WaferMas-ters Inc.近日宣布推出激光光学表面光度系统OSP-300。该系统可提供内嵌式非接触表面轮廓表征,用于各个工艺步骤问,该产品可用于研发和生产。
关 键 词:
表面表征
测量系统
非破坏性
晶圆
光度
设备供应商
光学表面
表面轮廓
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