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| 准分子分步投影光刻机问世 | |
| 引用本文： | 刘多勤.准分子分步投影光刻机问世[J].电子工业专用设备,1988(1). |
| 作者姓名： | 刘多勤 |
| 作者单位： | CEIEC/GCA技术服务中心 |
| 摘 要： | <正>1987年12月,半导体设备与材料协会(SEMI)在日本东京举办的展览会上,美国GCA公司展出了最新产品——准分子激光分步投影光刻机。据报导,约有875个公司参加了这次展览会,其中175个公司是首次参加SEMI/东京展览会,观众达5万多人。 一名GCA公司职员说:“我们原以为日本尼康公司、佳能公司也会有同类产品参加展出,所以把我们的设备带来了。”GCA公司将其展台部分遮蔽,以免机器完全曝露在大庭广众之下。日本Sumitomo/GCA公司的一名职员站在展台门口,接待排长队等候 |
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