首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

低能量He离子注入局域寿命控制LIGBT的实验研究
引用本文:方健,唐新伟,李肇基,张波. 低能量He离子注入局域寿命控制LIGBT的实验研究[J]. 半导体学报, 2004, 25(9): 1048-1054
作者姓名:方健  唐新伟  李肇基  张波
作者单位:电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054;电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054;电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054;电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054
摘    要:提出了一种采用低能量大剂量He离子注入局域寿命控制的高速L IGBT,并对其进行了实验研究.粒子辐照实验结果显示与常规的L IGBT相比较,该器件的关断时间和正向压降的折中关系得到了改善.同时研究了当局域寿命控制区位于p+ - n结附近,甚至在p+阳极内时,该器件的正向压降和关断时间.结果显示当局域寿命控制区在p+ 阳极内时,仍然对关断时间和正向压降有影响

关 键 词:LIGBT  局域寿命控制  He离子注入

Numerical and Experimental Study of Localized Lifetime Control LIGBT by High Dose He Ion Implantation
Fang Jian,Tang Xinwei,Li Zhaoji,Zhang Bo. Numerical and Experimental Study of Localized Lifetime Control LIGBT by High Dose He Ion Implantation[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2004, 25(9): 1048-1054
Authors:Fang Jian  Tang Xinwei  Li Zhaoji  Zhang Bo
Abstract:A high speed LIGBT with localized lifetime control by using high dose and low en ergy helium implantation(LC-LIGBT) is proposed.Compared with conventional LIGB Ts,particle irradiation results show that trade-off relationship between turn- off time and forward voltage drop is improved.At the same time,the forward volta ge drop and turn-off time of such device are researched,when localized lifetime control region place near the p -n junction,even in p anode.The results s how for the first time,helium ions,which stop in the p anode,also contribute to the forward voltage drop increasing and turn-off time reducing.
Keywords:LIGBT  localized lifetime control  helium ion implantation
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《半导体学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《半导体学报》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号