| 射频磁控溅射(Ti,Al)N薄膜性能的研究 |
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| 引用本文： | 何欣,杨会生,王燕斌,熊小涛,乔利杰,瞿春燕,杨建军. 射频磁控溅射(Ti,Al)N薄膜性能的研究[J]. 真空科学与技术学报, 2006, 26(2): 142-146 |
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| 作者姓名： | 何欣 杨会生 王燕斌 熊小涛 乔利杰 瞿春燕 杨建军 |
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| 作者单位： | 北京科技大学,材料物理与化学系,北京,100083 |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射，用Al靶和Ti靶同时溅射沉积（Ti，Al）N薄膜。研究表明：不同Al靶功率沉积的薄膜中始终存在面心立方结构（B1型），当Al靶功率大于250W薄膜中面心立方结构（B1型）和六方结构（B4型）共存。随Al成分的增加，B1型结构晶格常数减小，薄膜择优取向由B1型（111）向B4型（002）转变。薄膜表面随Al靶功率增加分别呈岛状、纤维状和柱状增长。（Ti，Al）N薄膜的硬度随Al靶功率的增加呈上升趋势。等离子体发射光谱分析显示，在相同工艺条件下Al靶比Ti靶先进入非金属态溅射模式，导致在相同功率下Al溅射速率低于Ti溅射速率。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 (Ti,Al)N薄膜 硬度 等离子体发射光谱 |
| 文章编号： | 1672-7126（2006）02-0142-05 |
| 收稿时间： | 2005-09-09 |
| 修稿时间： | 2005-09-09 |
Mechanical Properties of (Ti,Al)N Films Grownby RF Magnetron Co-Sputtering |
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| He Xin,Yang Huisheng,Wang Yanbin,Xiong Xiaotao,Qiao Lijie,Zhai Chunyan,Yang Jianjun. Mechanical Properties of (Ti,Al)N Films Grownby RF Magnetron Co-Sputtering[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2006, 26(2): 142-146 |
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| Authors: | He Xin Yang Huisheng Wang Yanbin Xiong Xiaotao Qiao Lijie Zhai Chunyan Yang Jianjun |
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| Affiliation: | Department of Materials Physics and Chemistry, Beijing University of Science and technology, Beijing 100083, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Opposed-target magnetron sputtering (Ti Al)N Hardness Plasma emission spectra |
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