| 多晶Al2O3薄膜的制备及工艺研究 |
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| 引用本文： | 刘建,杨东.多晶Al2O3薄膜的制备及工艺研究[J].真空与低温,2001,7(4):204-206,240. |
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| 作者姓名： | 刘建 杨东 |
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| 作者单位： | 内蒙古大学,物理系,内蒙古自治区,呼和浩特,010021 |
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| 基金项目： | 内蒙古自然科学基金资助项目(9610E10). |
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| 摘 要： | 高能氩离子束溅射金属铝靶,沉积在SiO2基片上的非晶薄膜是Al和Al2O3的混合物.非晶薄膜在空气中800～1000℃退火后将完全氧化并晶化而成γ-Al2O3、oc-Al2O3.对溅射镀膜的工艺条件也进行了探索.
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| 关 键 词： | Al2O3薄膜 溅射 退火 |
| 文章编号： | 1006-7086(2001)04-0204-03 |
| 修稿时间： | 2001年8月13日 |
PREPARATION OF Al2O3 POLYCRYSTALINE FILMS AND STUDY OF SPUTTERING TECHNIQUE |
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| LIU Jian,YANG Dong.PREPARATION OF Al2O3 POLYCRYSTALINE FILMS AND STUDY OF SPUTTERING TECHNIQUE[J].Vacuum and Cryogenics,2001,7(4):204-206,240. |
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| Authors: | LIU Jian YANG Dong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Al 2O 3 filme sputtering annealing |
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