| 硅烷CVD法在钢基体表面生成硅扩散涂层 |
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| 引用本文： | 杜平凡,沃银花,姚奎鸿,王勇,李晔.硅烷CVD法在钢基体表面生成硅扩散涂层[J].浙江理工大学学报,2005,22(3):266-268. |
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| 作者姓名： | 杜平凡 沃银花 姚奎鸿 王勇 李晔 |
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| 作者单位： | 1. 浙江理工大学材料工程中心,杭州,310018
2. 浙江大学材料与化工学院,杭州,310027 |
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| 摘 要： | 采用硅烷(SiH4)直接分解的化学气相沉积技术(CVD),在钢基体表面生成硅扩散涂层.X射线衍射(XRD)分析表明硅扩散涂层的主要成分是铁的硅化物FeSi.用扫描电子显微镜(SEM)对其形貌进行表征,发现涂层颗粒之间相互紧密粘结.金相照片显示,涂层与基体之间没有明显的界面,形成良好的扩散结合.
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| 关 键 词： | 硅烷 钢基体 硅扩散涂层 气相沉积法 |
| 文章编号： | 1009-4741(2005)03-0266-03 |
| 修稿时间： | 2004年12月7日 |
Silicon Diffusion Coating on Steel by Chemical Vapor Deposition of SiH4 |
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| DU Ping-fan,WO Yin-hua,YAO Kui-hong,WANG Yong,LI Ye.Silicon Diffusion Coating on Steel by Chemical Vapor Deposition of SiH4[J].Journal of Zhejiang Sci-tech University,2005,22(3):266-268. |
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| Authors: | DU Ping-fan WO Yin-hua YAO Kui-hong WANG Yong LI Ye |
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| Abstract: | Si diffusion coating is formed on steel substrate surface by chemical vapor deposition of SiH_4. The XRD pattern reveals that the main composition of Si diffusion coating is silicide FeSi. SEM is applied for charactering the surface morphology. The result indicates that the grains attached to each other strongly. The interface of the layer-substrate is shown by metallographic image. |
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| Keywords: | SiH_4 Steel substrate Si diffusion coating Chemical vapor deposition |
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