离子溅射及其在工业上的应用

“离子注入”是人们所熟悉的一项工艺技术。所谓“离子注入”就是将某种元素的离子在电场中加速,然后让高速离子打入某种材料的靶片。“离子注入”在半导体器件制作工艺中的应用极其成功和出色,它的优越性远远超出过去的“扩散”工艺。如果有意识地变更注入离子的能量和质量,使注入离子只作用到被轰击表面100A以内的深度。这时,注入离子不但不能打入靶片,反而将靶片材料的原子溅射出来,也就是说“离子注入”变成了“离子溅射”。可想而知,在“离子注入”工艺过程中,必须注意防止“离子溅射”的出现。然而,在机加工中,例如表面加工、成形和抛光,“离子溅射”却是一种极有力的工艺。