| 退火温度对p型CuCrO_2薄膜结构与光学性能的影响 |
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| 引用本文： | 黄斯楷,杨元政,谢致微. 退火温度对p型CuCrO_2薄膜结构与光学性能的影响[J]. 电子元件与材料, 2015, 0(7): 38-41 |
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| 作者姓名： | 黄斯楷 杨元政 谢致微 |
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| 作者单位： | 广东工业大学 材料与能源学院,广东 广州,510006 |
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| 基金项目： | 高等学校博士学科点专项科研基金资助(No.20124420110007)；广东省联合培养研究生示范基地人才培养项目资助 |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法在石英玻璃衬底上制备CuCrO2薄膜,研究退火温度对CuCrO2薄膜结构和光学性能的影响。结果表明:未经退火处理的CuCrO2薄膜为非晶态,颗粒较小,可见光透射率仅为56%。退火处理能够改善CuCrO2薄膜的结构和透光性能。随着退火温度的升高,薄膜结晶化程度逐渐增强,孔洞缺陷逐渐减少,薄膜逐渐变得平整致密,薄膜的透光性能得到改善,薄膜的吸收边向短波方向移动。当退火温度为800℃时,薄膜的性能最优,可见光透射率达到70%。光学带隙宽度为3.06eV。
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| 关 键 词： | CuCrO2 射频磁控溅射 退火温度 结构 光学性能 光学带隙宽度 |
Effect of annealing temperature on structure and transmittance properties of p-type CuCrO2 film |
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| HUANG Sikai,YANG Yuanzheng,XIE Zhiwei. Effect of annealing temperature on structure and transmittance properties of p-type CuCrO2 film[J]. Electronic Components & Materials, 2015, 0(7): 38-41 |
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| Authors: | HUANG Sikai YANG Yuanzheng XIE Zhiwei |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | CuCrO2 radio frequency magnetron sputtering annealing temperature structure optical properties optical band gap |
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