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多晶硅的点阵吸收带
作者姓名:李月珍  沈金媛  王云珍
作者单位:中科院上海冶金所,中科院上海冶金所,华东师范大学
摘    要:多晶硅在300K和78K,7.5~20μm范围内的红外吸收峰的形状,频率和吸收峰对应的声子能量与单晶硅完全符合,也与文献报导的单晶硅的结果相符合,是多声子吸收引起的,因而晶界对红外吸收不敏感,因此多晶中氧、碳杂质的测定,仍可沿用单晶硅中氧含量测定的换算系数。

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