| 亚微米i线投影光刻物镜的光学设计与研制 |
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| 引用本文： | 林大键,李展.亚微米i线投影光刻物镜的光学设计与研制[J].光电工程,1997(Z1). |
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| 作者姓名： | 林大键 李展 |
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| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 |
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| 基金项目： | “八五”中国科学院重大项目 |
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| 摘 要： | 叙述亚微米投影光刻物镜光学设计要点：光刻分辨力Ｒ与波长λ、数值孔径ＮＡ的关系；光学系统双远心的构成方法；光刻物镜的象差校正优化设计中的需控目标值等问题。介绍一个亚微米ｉ线投影光刻物镜的设计结果、光学制造公差和质量控制方法，以及其主要性能测试结果。
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| 关 键 词： | 优化设计，投影物镜，投影光刻，象差修正 |
Optical Design and Manufacture of i Line Projection Lens for Submicrometer Photolithography |
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| Lin Dajian,Li Zhan.Optical Design and Manufacture of i Line Projection Lens for Submicrometer Photolithography[J].Opto-Electronic Engineering,1997(Z1). |
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| Authors: | Lin Dajian Li Zhan |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Optimum design Projection objectives Projection lithography Aberration correction |
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